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详细介绍
| 品牌 | ZEISS/蔡司 | 产地类别 | 进口 |
|---|---|---|---|
| 价格区间 | 面议 | 仪器种类 | 场发射 |
| 应用领域 | 化工,生物产业,能源,电子/电池,电气 |
蔡司Sigma系列产品集场发射扫描电子显微镜（FE-SEM）技术与良好的用户体验于一体，可轻松实现成像和分析程序，提高工作效率。 您可以将其用于新材料和颗粒的质量监测，或用于生物和地质样品的研究。在高分辨率成像方面精益求精——采用低电压，在1 kV或更低电压下获得更佳的分辨率和衬度。它出色的EDS几何学设计可执行高级显微分析，以两倍的速度和更高的精度获取分析数据。
使用Sigma系列，畅游纳米分析世界。
Sigma 360是一款直观的成像和分析FE-SEM，是分析测试平台的理想之选。
Sigma 560采用EDS几何学设计，可提供高通量分析，实现自动原位实验。
分析测试平台的理想之选，直观的图像采集
从设置到获取基于人工智能的结果，均提供专业向导，为您保驾护航，助您探索直观的成像工作流。
可在1 kV和更低电压下分辨差异，实现更高的分辨率和优化的衬度。
可在特殊条件下执行可变压力成像，获得出色的非导体成像结果。
从设置到获取基于人工智能的结果，每一步都清晰明了
即使您是新手用户，也能轻松获得专业结果。Sigma系列可迅速获取图像，易于学习和使用的工作流程可节省培训时间，简化从导航到后期处理的每个步骤，让您如虎添翼。
蔡司SmartSEM Touch中的软件自动化可助您完成导航、参数设置和图像采集等步骤。
接下来，ZEN core便可大显身手：它配备针对具体任务的工具包，适用于后期处理。我们十分推荐基于机器学习的人工智能工具包，它可助您进行图像分割，将多模式实验与Connect Toolkit相结合，此外，Materials应用程序还能分析微观结构、晶粒尺寸或涂层厚度。
增强的分辨率，优化的衬度
光学镜筒是成像和分析性能的关键。Sigma配备蔡司Gemini 1电子光学系统，可对任何样品提供出色的成像分辨率，尤其是在低电压条件下。
蔡司Sigma 360场发射扫描电子显微镜的低电压分辨率目前规定500 V时为1.9 nm。通过大幅度降低色差，1 kV时的分辨率已提升10%以上，可达。
现在成像比以往任何时候都轻松，无论是要求严苛的样品，还是在可变压力（VP）模式下采用背散射探测。
用于分析和成像的NanoVP lite模式
全新的 NanoVP lite模式和探测器可轻松在低于5 kV的条件下从绝缘材料中获得高质量数据。
这样就可增强成像和X射线能谱分析的性能，提供更多表面敏感信息，缩短采集时间，增强入射电子束流，提高能谱面分布速度。
aBSD1（环形背散射电子探测器）或新一代C2D（级联电流）探测器可确保在低电压条件下采集到出色图像。
高通量分析，原位实验自动化
对实体样品进行高效分析：基于SEM的高速分析。
实现原位实验自动化：无人值守测试的全集成实验室。
可在低于1 kV的条件下完成要求严苛的样品成像：采集完整的样品信息。
EDS：通用、高速，助您深入研究
Sigma 560的EDS几何学设计可提高分析效率。两个180°径向相对的EDS端口确保了即使在低电压小束流条件下，也能实现高通量无阴影元素分布成像。
样品仓的附加EBSD和WDS端口不局限于满足EDS分析。
不导电样品也可以使用全新的NanoVP lite模式进行分析，并能获得更强的信号和更高的衬度。
全新的aBSD4探测器可轻松实现表面形貌复杂样品的图像采集。
无人值守测试的全集成实验室
Sigma原位实验室是一种全集成式解决方案，它可以不依赖操作人员，通过无人值守的自动化工作流进行加热和拉伸测试。
通过对纳米级别的特征进行三维分析进一步扩展您的工作流：执行三维STEM断层成像或基于人工智能的图像分割。
可在1 kV和更低电压条件下分辨差异
在1 kV或甚至在500 V时实现信息量丰富的成像和分析：Sigma 560的低电压分辨率规定500 V时为1.5 nm。
在全新的NanoVP lite模式下，使用新型aBSD或C2D探测器在可变压力下轻松拍摄高要求样品，加速电压可低至3 kV。
正在研究电子设备的您肯定希望保持清洁的工作环境。使用等离子清洗仪（强烈推荐）和可通过6英寸晶圆的新型大尺寸样品交换舱，防止您的样品室受到污染。
Gemini光学镜筒截面示意图，包含电子束推进器、Inlens探测器和Gemini物镜。
Gemini 1的光学系统由三个元件组成：物镜、电子束推进器和具有Inlens探测原理的探测器。其中，物镜的设计将静电场与磁场的作用力相结合，大大优化光学性能的同时，降低了样品所处的场影响。如此也可实现对磁性材料等具有挑战性的样品的高品质成像。Inlens探测原理通过对二次电子（SE）和/或背散射电子（BSE）的探测来确保高效的信号检测，同时大幅缩短获取图像的时间。电子束推进器保证了小尺寸的电子束斑和高信噪比。
Gemini 1光学镜筒与探测器截面示意图
Sigma配备了一系列不同的探测器，通过新探测技术对您的样品进行表征。使用ETSE和Inlens探测器的高真空模式可获取表面形貌的高分辨率信息。使用VPSE或C2D探测器的可变压力模式可获得清晰图像。使用aSTEM探测器可进行高分辨率透射电子成像。 采用不同的可选BSE探测器（如aBSD探测器）可以深入研究样品的成分和表面形貌。
标准VP（左）和NanoVP lite（右）模式，气体分布（粉红色），电子束裙边（绿色）。
采用NanoVP lite模式进行分析和成像，在低电压条件下可获得更高的图像质量，更快速地获取更准确的分析数据。
在NanoVP lite模式下，裙边效应降低且入射束流的路径长度（BGPL）减小。裙边减小会提高SE和BSE成像的信噪比。
带有五段圆弧的伸缩式aBSD可提供出色的材料成分衬度：在NanoVP lite工作过程中，该探测器配备了安装在极靴下方的束流套管，其可提供高通量及低电压的成分和表面形貌高衬度成像，适用于可变压力和高真空条件。
探索聚合物、纤维、二硫化钼等材料样品的图像。
对断裂的聚苯乙烯样品表面进行成像，以了解聚合物界面处的裂纹形成和附着力。
Sigma 560， 3 kV，60 Pa样品仓压力下的NanoVP lite模式，C2D G2。
由德国科隆大学无机化学研究所的V. Brune博士提供。
用于药物传递的MSC胶囊（中空介孔二氧化硅）。背散射成像显示了二氧化硅纳米胶囊中的氧化铁颗粒。Sigma 560，HDBSD，5 kV。
以低电压成像的碳纳米管（CNT）。Sigma 560，500 V，Inlens SE探测器。
氧化铝（Al2O3）球体。在500 V表面信息敏感条件下高分辨率成像，可以看到烧结颗粒的表面梯度，某些梯度之间的距离仅为3 nm。Sigma 560，500 V，Inlens SE。
电池正极铝箔颗粒表面。利用材料成分衬度识别Li-NMC上的粘合剂（较暗的材料），使用aBSD成像。
利用化学气相沉积（CVD）技术在Si/SiO2基材上生长的MoS22D晶体：RISE图像呈现出MoS2晶体的褶皱和重叠部分（绿色）、多层（蓝色）及单层（红色）结构，图像宽度32 µm。
钢原位加热和拉伸实验。同步执行SEM成像和EBSD分析，以深入研究应力应变曲线。
了解更多有关原生动物或真菌的微观和纳米结构信息，获取切面样品或薄片上的超微结构。
在1 kV高真空条件下，使用ETSE探测器轻松完成放射虫精细镂空结构成像，图像宽度183 µm。
在1 kV高真空条件下对蘑菇真菌孢子成像。使用Sigma 500可以在低电压下对这些精巧脆弱的结构轻松成像。
由挪威卑尔根大学萨斯海洋分子生物学中心的Anna Seybold和Harald Hausen提供。
固着海洋生物苔藓虫Tricellaria inopinata的超微结构，观察视野为30 μm。使用蔡司Sigma 560采集，Sense BSD探测器，1 kV，30 pA。
由UCL眼科研究所的Peter Munro博士和Hannah Armer提供。
使用连续切面成像技术自动采集的3D大脑超微结构。星形细胞（青色）被识别和分割。
探索岩石、矿石和金属。
在20 kV下使用YAG-BSD成像的岩石样品，由于YAG晶体的光传导性能可高速采集图像。
硫化镍矿石。矿物EDS面分布图，图像宽度3.1 mm。样品由英国莱彻斯特大学提供。
铁矿石矿物分析：铁矿石矿物的拉曼光谱分析，扫描电子显微镜图像和拉曼图叠加。（赤铁矿为红色、蓝色、绿色、橙色和粉红色；针铁矿为淡蓝色）。
铁矿石矿物分析，拉曼光谱：赤铁矿光谱的差异表征了其晶体取向的不同。（赤铁矿为红色、蓝色、绿色、橙色和粉红色；针铁矿为淡蓝色）。
含石榴石片麻岩的定量EDS主要元素热图（Ca），突出了关键矿物中的地球化学分区。
了解如何对金属、合金和粉末进行研究。
在40 Pa可变压力模式下，使用C2D探测器轻松完成对颜料和遮光剂用非导电二氧化tai颗粒的成像，图像宽度10 µm。
在20 kV的暗场模式下，使用aSTEM探测器对25 – 50 nm氧化铁颗粒成像。
在1 kV下使用aBSD对超导合金样品成像。（比例尺20 µm）
氧化锌枝晶：检测储能系统电极的形态变化。Sigma，ETSE，5 kV。
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