Huttinger 等离子射频电源

Huttinger等离子体射频电源TruPlasma Match1000提供解决方案

Huttinger等离子体射频电源TruPlasma Match1000提供技术支持服务

　　高频电流:测量用于识别等离子体异常的高精度AC电流测量装置，于工艺流程就近安放在阻抗匹配器内，紧挨腔室。

　　电弧管理:是适用于等离子体工艺流程控制的理想模块。有针对性的电弧识别确保生产效率，同时保护产品与设备。

　　接口：Analog/Digital、PROFIBUS和EtherCAT作为可选接口提供。标配EtherNet、SystemPort和RS232/485。

　　等离子体工艺就像一个复杂可变的负载，必须通过发生器为其不断供电。这项工作由有源匹配网络（所谓的阻抗匹配器）来完成，确保随时匹配50Ω的最佳阻抗。由此形成协调的系统解决方案——通快RF系统。通过不同接口（如EtherCAT）可十分轻松地将发生器和阻抗匹配器集成至现有工艺环境之中，并通过发生器与阻抗匹配器的智能连接（即所谓的SystemPort）形成经优化的系统解决方案。

　　Huttinger霍廷格高频电源PFG 1000

　　霍廷格huttinger DC3030直流磁控溅射电源

　　凭借主振荡器可稳定和优化关键的同步等离子体过程。集成式数字频率与相位合成器确保高频率与相位稳定性，可以实现按照极小的步幅调整相位。可选择用于13.56 MHz频率以及各种频率组合的不同规格主振荡器。

　　复杂的图形表示实现全面管理所有相关工艺参数。负载与阻抗匹配器阻抗通过史密期圆图，含频率与相位在内的高频输入与输出功率借助实时示波器进行可视化。