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TruPlasma Highpulse 4002直流等离子体电源

简要描述:TruPlasma Highpulse 4002直流等离子体电源
TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列发生器可作为直流溅射电源的替代方案,无需改动即可用于现有磁控系统。其提供尤为抗腐蚀且耐磨损的硬质镀膜,因此是高功率脉冲磁控溅射应用的首要之选。

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  • 更新时间:2022-05-31
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TruPlasma Highpulse 4002直流等离子体电源

HiPIMS 应用的选择

TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列发生器可作为直流溅射电源的替代方案,无需改动即可用于现有磁控系统。其提供尤为抗腐蚀且耐磨损的硬质镀膜,因此是高功率脉冲磁控溅射应用的首要之选。

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TruPlasma Highpulse 4002直流等离子体电源

无瑕的镀膜结果

高达 4 兆瓦的最佳峰值功率以较高的离子流量产生非常密集的等离子体。

可灵活使用

轻松适配现有阴极系统和工艺条件实现最佳设备集成。

HiPIMS 应用的

作为先进的脉冲式 PVD 溅射工艺,HiPIMS 可提供特别抗腐蚀又耐磨损的硬质镀膜。

适用于众多应用

亦可用于直流电模式,无需额外的直流发生器。

最佳工艺成果

高峰值功率产生高度离子化的等离子体并实现高离子流量。由此可取得非常连贯且致密的薄膜并避免微滴。若与极化基板配置相结合,则 TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列发生器可以在刻蚀、沟填应用中提供出色结果。

全数字化电弧管理

可调脉冲宽度与频率、扩展性能参数和具有极少电弧能量的全数字化电弧管理实现无液滴溅射、低限度的薄膜缺陷并保证较高的涂层质量和沉积速率。

出色的镀膜

凭借高能量与高达 2 kV 的电压,可以制造出高质量的镀膜——无论是在小型实验室里还是在大型工业设施中。可达 5 ms 的脉冲与最高 10 kHz 的频率提高了沉积速率,因此有助于降低总体经营成本。

高工艺稳定性

凭借可调频率的功率调节器确保沉积参数在高要求的反应工艺中也能保持恒定。因此,工艺得以在几小时甚至几天内保持稳定,无需人为介入。

紧凑型单元

TruPlasma Highpulse 系列发生器是一个紧凑型单元。其无需外部直流电源,采用全水冷设计,因此得以在洁净室内工作。




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